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ACT-220AII 旋轉涂布機——高性能薄膜制備的實驗室利器
在現(xiàn)代材料科學、半導體制造、光學技術以及生物技術等領域，薄膜制備是關鍵的工藝步驟之一。旋轉涂布技術因其操作簡便、成本低、成膜均勻等優(yōu)點，被廣泛應用于實驗室和工業(yè)生產(chǎn)中。日本ACTIVE公司推出的 ACT-220AII 旋轉涂布機，憑借其高性能、高精度和多功能性，成為薄膜制備領域的理想選擇。
1. ACT-220AII 旋轉涂布機概述
ACT-220AII 是一款桌面型旋轉涂布機，專為小型實驗室和研究機構設計，適用于半導體、太陽能電池、光學透鏡、納米技術、生物技術以及液晶顯示器等領域的薄膜制備。該設備以其緊湊的設計、高性價比和廣泛的適用性而受到全球科研人員和工程師的青睞。
2. 技術特點
2.1 高精度旋轉控制
ACT-220AII 提供 0-7000 rpm 的旋轉速度范圍，精度高達 ±1 rpm。這種高精度的旋轉控制能夠確保薄膜的均勻性，滿足不同材料和工藝的需求。
2.2 多段式程序控制
設備支持 10步×100模式 的程序記憶，用戶可以根據(jù)實驗需求設置復雜的多段涂布程序。此外，還可以切換為 50步×20模式，進一步優(yōu)化涂布過程。
2.3 安全設計
ACT-220AII 配備帶聯(lián)鎖傳感器的安全蓋，能夠在旋轉過程中滴液，同時確保操作人員的安全。這種設計不僅提高了操作的便利性，還有效防止了溶劑揮發(fā)和樣品污染。
2.4 適用基板尺寸
該設備適用于 φ5mm至φ100mm 的基板，最大支持 φ4英寸 或 □70mm 的樣品。這種廣泛的適用性使其能夠滿足多種實驗需求。
2.5 便捷連接
ACT-220AII 本體和真空泵側配備一鍵式連接器，便于管路連接。此外，設備還提供定制選項，可根據(jù)用戶需求調(diào)整配置。
3. 應用領域
3.1 半導體制造
在半導體制造中，ACT-220AII 用于光刻膠的涂布，能夠確保薄膜的均勻性和高精度，從而提高光刻工藝的質量。
3.2 太陽能電池
在太陽能電池的制造過程中，旋轉涂布技術用于沉積薄膜材料，如透明導電氧化物（TCO）和鈣鈦礦。ACT-220AII 的高精度控制能夠確保薄膜的均勻性和光電性能。
3.3 光學透鏡
在光學透鏡的制造中，ACT-220AII 用于抗反射膜和增透膜的涂布。其高精度的旋轉控制能夠確保薄膜的均勻性，從而提高光學性能。
3.4 納米技術與生物技術
在納米技術和生物技術領域，ACT-220AII 用于制備納米材料和生物傳感器的薄膜。其多段式程序控制能夠滿足復雜的涂層需求，確保薄膜的均勻性和功能性。
3.5 液晶顯示器
在液晶顯示器的制造中，ACT-220AII 用于顯示面板的薄膜涂層。其高精度和多功能性能夠滿足不同工藝的需求，提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質量。
4. 技術規(guī)格
- 旋轉速度范圍：0-7000 rpm，精度±1 rpm。
- 適用基板尺寸：φ5mm至φ100mm，最大支持φ4英寸或□70mm。
- 電源：1Φ 100V-10A（AC伺服電機200W），50/60Hz。
- 真空泵：需要外接真空泵，排量12L/min以上。
- 外形尺寸：250×330×272mm（安全蓋關閉時）。
- 重量：18kg。
- 材料：不銹鋼電解拋光（可選特氟龍涂層）。
5. 使用案例
5.1 半導體光刻膠涂布
在某半導體實驗室中，研究人員使用 ACT-220AII 對硅片進行光刻膠涂布。通過設置多段式程序，設備能夠在不同速度下進行涂布，確保光刻膠的均勻分布。實驗結果顯示，使用 ACT-220AII 制備的光刻膠薄膜具有優(yōu)異的均勻性和一致性，顯著提高了光刻工藝的成功率。
5.2 透明導電氧化物薄膜沉積
在太陽能電池研究中，研究人員利用 ACT-220AII 沉積透明導電氧化物（TCO）薄膜。設備的高精度旋轉控制和多段式程序設計能夠確保薄膜的均勻性和導電性。實驗表明，使用 ACT-220AII 制備的 TCO 薄膜具有良好的光電性能，顯著提高了太陽能電池的轉換效率。
6. 優(yōu)勢總結
ACT-220AII 旋轉涂布機憑借其高精度、多段式程序控制、安全設計和廣泛的適用性，成為薄膜制備領域的理想選擇。無論是在半導體制造、太陽能電池、光學透鏡、納米技術還是生物技術領域，ACT-220AII 都能夠提供穩(wěn)定、高效和可靠的涂布解決方案。
7. 結論
ACT-220AII 旋轉涂布機以其高性能、高精度和多功能性，成為實驗室和工業(yè)生產(chǎn)中薄膜制備的理想選擇。其緊湊的設計、安全的操作和廣泛的適用性使其能夠滿足多種實驗需求，顯著提高薄膜制備的效率和質量。無論是在科研還是生產(chǎn)中，ACT-220AII 都能夠為用戶提供可靠的解決方案，助力薄膜技術的發(fā)展。
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