日本理學(xué)電子rigaku真空爐/加壓爐

在真空熱處理爐中，所說(shuō)的《淬火》處理，是指減壓后的爐體里，維持材料的高溫狀態(tài)后，用高壓的氣體循環(huán)來(lái)急速冷卻的工序。
因?yàn)槔韺W(xué)的磁流體密封裝置的構(gòu)造*性、其導(dǎo)磁軸耐強(qiáng)負(fù)荷的*技術(shù)條件在這里也得到充分發(fā)揮。
為了循環(huán)加壓氣體而引進(jìn)了回轉(zhuǎn)風(fēng)機(jī)，理學(xué)的磁流體受到廣泛采用，軸的剛性強(qiáng)度大的 理學(xué)*的磁流體密封結(jié)構(gòu)具有高負(fù)荷、高扭矩傳遞等優(yōu)點(diǎn)。

高壓用磁流體密封的制作舉例

理學(xué)磁流體密封在真空處理爐，燒結(jié)爐，滲碳爐，氮化爐等各種用途的工業(yè)爐上得到廣泛應(yīng)用。
下圖是醉高可以承受0.9 MPa加壓的磁流體密封制作舉例。

使用高壓爐的客戶(hù)

高壓型磁流體密封屬于特殊產(chǎn)品。
客戶(hù)請(qǐng)將壓力室的壓力、使用環(huán)境、溫度范圍、旋轉(zhuǎn)數(shù)、形狀及負(fù)荷條件等告知我們。

其他實(shí)例

卷對(duì)卷成膜設(shè)備 / 真空機(jī)器人 / CVD設(shè)備 / 濺射設(shè)備 / 離子注入設(shè)備 / 單晶制造設(shè)備 / 真空吸附 / 蝕刻設(shè)備 / X射線發(fā)生器 / 攪拌裝置 / 氣體導(dǎo)入機(jī) / 電弧放電 / 外延生長(zhǎng)設(shè)備

在真空熱處理爐中，所說(shuō)的《淬火》處理，是指減壓后的爐體里，維持材料的高溫狀態(tài)后，用高壓的氣體循環(huán)來(lái)急速冷卻的工序。
因?yàn)槔韺W(xué)的磁流體密封裝置的構(gòu)造*性、其導(dǎo)磁軸耐強(qiáng)負(fù)荷的*技術(shù)條件在這里也得到充分發(fā)揮。
為了循環(huán)加壓氣體而引進(jìn)了回轉(zhuǎn)風(fēng)機(jī)，理學(xué)的磁流體受到廣泛采用，軸的剛性強(qiáng)度大的 理學(xué)*的磁流體密封結(jié)構(gòu)具有高負(fù)荷、高扭矩傳遞等優(yōu)點(diǎn)。

高壓用磁流體密封的制作舉例

理學(xué)磁流體密封在真空處理爐，燒結(jié)爐，滲碳爐，氮化爐等各種用途的工業(yè)爐上得到廣泛應(yīng)用。
下圖是醉高可以承受0.9 MPa加壓的磁流體密封制作舉例。

使用高壓爐的客戶(hù)

高壓型磁流體密封屬于特殊產(chǎn)品。
客戶(hù)請(qǐng)將壓力室的壓力、使用環(huán)境、溫度范圍、旋轉(zhuǎn)數(shù)、形狀及負(fù)荷條件等告知我們。

其他實(shí)例

卷對(duì)卷成膜設(shè)備 / 真空機(jī)器人 / CVD設(shè)備 / 濺射設(shè)備 / 離子注入設(shè)備 / 單晶制造設(shè)備 / 真空吸附 / 蝕刻設(shè)備 / X射線發(fā)生器 / 攪拌裝置 / 氣體導(dǎo)入機(jī) / 電弧放電 / 外延生長(zhǎng)設(shè)備

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